O AGENTICO
Intel processa 1 milhão de wafers com High-NA EUV, mais que o resto da indústria
2 fontesdesde 08 de setembro de 20262 artigos
A Intel anunciou que processou mais de um milhão de wafers de 300 mm usando seus scanners High-NA EUV em menos de dois anos e meio, superando o restante da indústria combinada. O marco inclui wafers usados em instalação, certificação, P&D e produção, com os equipamentos já sendo utilizados para fabricar processadores Panther Lake.
Resumo
A Intel processou mais de um milhão de wafers de 300 mm usando seus scanners High-NA EUV.
Esse marco demonstra a liderança da Intel na adoção da litografia de alta abertura numérica, essencial para a produção de chips avançados.
A Intel ultrapassou o restante da indústria combinado em número de wafers processados com High-NA EUV.
Isso posiciona a Intel como a principal usuária dessa tecnologia de litografia, consolidando sua liderança no segmento de fabricação avançada.
O volume de um milhão de wafers inclui processamento durante instalação e certificação das ferramentas, P&D e produção.
Esse detalhe esclarece que o número não se refere apenas a wafers comerciais, mas engloba também atividades de testes e desenvolvimento.
A Intel está desenvolvendo fotonascas maiores, de 6×12 polegadas, que permitiriam expor campos completos sem costura.
Isso pode acelerar a produção e reduzir custos, eliminando a necessidade de unir campos na litografia.
Todo dia, só o que dois veículos independentes confirmaram — no seu feed.