Intel processa 1 milhão de wafers com High-NA EUV, mais que o resto da indústria

08 de setembro de 2026 · 2 fontes independentes

A Intel processou mais de um milhão de wafers de 300 mm usando seus scanners High-NA EUV.

Esse marco demonstra a liderança da Intel na adoção da litografia de alta abertura numérica, essencial para a produção de chips avançados.

A Intel ultrapassou o restante da indústria combinado em número de wafers processados com High-NA EUV.

Isso posiciona a Intel como a principal usuária dessa tecnologia de litografia, consolidando sua liderança no segmento de fabricação avançada.

O volume de um milhão de wafers inclui processamento durante instalação e certificação das ferramentas, P&D e produção.

Esse detalhe esclarece que o número não se refere apenas a wafers comerciais, mas engloba também atividades de testes e desenvolvimento.

A Intel está desenvolvendo fotonascas maiores, de 6×12 polegadas, que permitiriam expor campos completos sem costura.

Isso pode acelerar a produção e reduzir custos, eliminando a necessidade de unir campos na litografia.

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